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原薬合成用溶媒
このたび、原薬製造工程において最終品位や収率に影響を及ぼす、水分、不揮発物及び有害性の高
いベンゼンを規格保証した高純度な溶媒製品をご用意いたしました。季節変動、ロット間差による品
位のばらつきがない安心してご使用いただける製品ですので、医薬品原薬、添加物等の合成に是非ご
検討ください。
特
長
適正な管理によりコンタミリスクを低減
低ベンゼン保証（1ppm 以下）
不揮発物、水分を低減した高純度溶媒
【保証項目】
酢酸エチル
ヘキサン
規格項目
規格値
規格項目
規格値
純度（GC）
99.5％以上
純度（GC）
96.0%以上
外観
10 ﾊｰｾﾞﾝ以下
水分
0.01% 以下
密度（20 ℃）
0.898～0.902 g/ml
不揮発物
2ppm 以下
屈折率
1.370～1.374
酸（CH3COOH として）
0.002%以下
水分
0.02% 以下
油脂
試験適合
不揮発物
2ppm 以下
チオフェン類
試験適合
酸（CH3COOH として）
0.005% 以下
ベンゼン（GC）
1ppm 以下
ベンゼン（GC）
1ppm 以下
硫酸着色物質
試験適合
エタノール（GC）
0.1%以下
硫化物及び還元性物質
試験適合
メタノール（GC）
0.1%以下
酢酸メチル（GC）
0.1%以下
硫酸着色物質
試験適合
【製品リスト】
製
品
名
保証項目
酢酸エチル
特級
+
水分、不揮発物、ベンゼン
ヘキサン
特級
+
水分、不揮発物、ベンゼン
包 装
3L
15kg
180kg
3L
11kg
130kg
価 格
\7,000
☆
\5,500
☆
☆
製品番号
57600-76
57600-82
57600-84
57601-76
57601-82
57601-84
上記製品以外にも溶媒の各種カスタムメイドを承っております。ご要望の際は最寄りの弊社営業所までご連絡ください。
◎関連製品
残留溶媒試験用試薬
残留溶媒試験法は、医薬品中に存在する有機溶媒の量をガスクロマトグラフ法により定量し、その限界値を超
えて有機溶媒が医薬品中に存在しないことを確認するものです。
従来、市販されている残留溶媒試験用ならびに一般試薬のほとんどは、低沸点不純物が除去されておらず、GC
チャート上で試薬由来不純物のピークと目的化合物のピークが重なるため使用できませんでした。
弊社「残留溶媒試験用」試薬はメタノール等の低沸点不純物となる含有量を低減し、残留溶媒適合性試験により
品質を保証しています。
《N,N-ジメチルホルムアミド GC ブランク例》
【GC 測定条件】
pA
カラム
メタノール→
5
： DB-WAX(内径0.53mm, 長さ60m, 膜厚1μm)
注入口温度 ： 200℃
スプリット比 ： 5 : 1
カラム温度
： 40℃(0分)-3℃↑/分-100℃(0分)-10℃↑/分-230℃(7分)
試薬注入量 ： 5μL
4
検出器
0
5
10
15
20
min
： FID
検出器温度 ： 250℃
【製品リスト】
製品番号
10378-07
10344-07
25336-02
製
品
名
ジメチルスルホキシド
N,N-ジメチルホルムアミド
N-メチル-2-ピロリジノン
規
格
残留溶媒試験用
残留溶媒試験用
残留溶媒試験用
包 装
500mL
500mL
500mL
価 格
\5,800
\5,800
\8,000
2012.8