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東北大学西澤潤一記念研究センター
財団法人半導体研究振興会（半導体研究所）が2008年3月末に解散し、資産が東北大学に寄付。
2010.4 試作コインランドリ（半導体・MEMS開発のための装置開放）開始 (約1,000m2)
2012.5 仙台MEMSショールームオープン
2012.6 文部科学省ナノテクプラットフォーム事業開始
本館
2013.1 近代技術史博物館オープン
機械棟
本館
研究棟
試作コインランドリ
長谷記念館
仙台MEMSショールーム
2号館
本館
事務棟
延床面積：8,976m2
近代技術史博物館
試作コインランドリ：2階クリーンルームの装置レイアウト
2008年までパワートランジスタ
の4インチ製造ラインとして利用
されてきたエリア
2008年に大学が引継いだ装置
新規導入した装置
企業等から寄附いただいた装置
学内から移設した装置
2Fクリーンルーム以外の装置
1F-CR
熱電子SEM
X線CTスキャナ
3F-CR
断面FE-SEM
EB描画装置
TOF-SIMS
めっき装置
Q-mass
超臨界乾燥装置
超音波顕微鏡
KOHウェットエッチング
各種ドラフト
パターンジェネレータ
20mm角用スパッタ
オゾンアッシング装置
ウェハダイシング装置
2号館1F
1,800
m2
クラス1～1,000
サンドブラスト装置
洗浄、乾燥
酸ドラフト
有機ドラフト
ブラシスクラバ
スピン乾燥機
~6”
~6”
~6”
4”, 6”
フッ酸／硝酸／硫酸／塩酸等
有機洗浄／レジスト剥離
全協化成
研磨後のウェハ洗浄用
SEMITOOL PSC101 等3台
カセット式
スピン乾燥機
CO2超臨界乾燥機
イナートオーブン
真空オーブン
~6”
~6”
~6”
~6”
ヤマト科学 DN63H
ヤマト科学 DP-31
東邦化成 ZAA-4 2台
平置き式
SCFluids CPD1100
フォトリソグラフィ
パターンジェネレータ
レーザ描画装置
スピンコータ
スピンコータ
~6”
~9”
~6”
~6”
日本精工 TZ-310
エマルジョン／Crマスク作製
~1μm
ハイデルベルグインスツルメンツ
ミカサ 1H-DXII 2台
アクテス ASC-4000 2台
コータデベロッパ
ホットプレート
クリーンオーブン
ポリイミドキュア炉
~4”
~6”
~6”
~6”
キヤノン CDS-630
ポジ用
4台
ヤマト科学 DE62 2台
ヤマト科学 DN43H
DWL2000CE
~0.6 µm
フォトリソグラフィ
ステッパ
両面アライナ
片面アライナ
EB描画装置
4”, 6”
~6”
4”
~3”
キヤノン FPA1550M4W
g線、~0.6µm
Suss MA6/BA6 2台
キヤノン PLA-501-FA
Raith 50
30nm
現像ドラフト
UVキュア装置
スプレー現像装置
EB描画装置
~6”
~4”
~6”
~6”
ウシオ電機 ユニハード
UMA-802
アクテス ADE-3000S
真空／メカチャック
エリオニクス ELS-G125S
Max130keV, ~4nm
酸化・拡散、イオン注入、熱処理
酸化・拡散炉
中電流イオン注入装置
高電流イオン注入装置
ランプアニール装置
~6”
~4”
~6”
~6”
TEL XL-7
P形用、N形用それぞれ1台
日新イオン機器 NH-20SR
200keV、0.6mA
住友イートンノバ NV-10
80keV、6mA
AG Associates AG4100
1000℃
メタル拡散炉
~4”
光洋リンドバーグ Model270
メタル等、多用途の酸化拡散
成膜（CVD、スパッタ、蒸着他）
LP-CVD
熱CVD
PE-CVD
PE-CVD
~6”
~6”
~8”
~8”
システムサービス
SiN、Poly-Si、NSG
国際電気
Epi-Poly Poly-Si、1100℃
住友精密 MPX-CVD
SiN（応力制御可）、SiO2
住友精密 MPX-CVD
TEOS SiO2
PE-CVD
スパッタ装置
スパッタ装置
スパッタ装置
~6”
~6”
~8”
~8”
日本生産技術 VDS-5600
SiN、SiO2
アネルバ SPF-730
8インチターゲット×3
Al、AlSi
芝浦メカトロニクス CFS-4ESII
芝浦メカトロニクス !-Miller
3インチターゲット×4、基板加熱形
ロードロック、自動搬送付（10枚まで）
3インチターゲット×3
基板加熱形1台、基板冷却形1台
成膜（CVD、スパッタ、蒸着他）
~6”
ゾルゲル自動成膜装置
~4”
MOCVD
~8”
アネルバ EVC-1501
テクノファイン PZ-604
ワコム研究所
PZT
W-CVD
電子ビーム蒸着装置
4”
アプライドマテリアルズ
Precision 5000
エッチング
Si Deep-RIE 4台
ドライエッチング装置
ドライエッチング装置
Al RIE
~8”
~6”
4”
4”
住友精密 MUC-21
SF6、C4F8
アネルバ DEA-506
CF4、CHF3 （SiN、SiO2用）
アネルバ L-507DL
SF6 （Si用）
芝浦エレテック HIRRIE-100
Cl2、BCｌ3
多用途RIE
ECRエッチング装置
アッシング装置
イオンミリング装置
~6”
3”
~6”
6” x 3枚、4” x 6枚
アルバック RIH-1515Z
アネルバ ECR6001
Cl2
ブランソン IPC4000
13.56MHz、600W
エヌ・エス／伯東
20IBE-C
Cl2、BCl3、SF6、CF4、CHF3、Ar、O2、N2
研磨、接合、パッケージング、インプリント、その他
ウェハ研磨装置
ウェハ研磨装置
ウェハ接合装置
ダイサ
~6”
~4”
~6”
~6”
BNテクノロジー Bni62
BNテクノロジー Bni52
Suss SB6e
ディスコDAD522、DAD2H/6T
東京精密
ワイヤボンダ
コンベア炉
レーザマーカ
サンドブラスト
小片
~4”
~4”
~6”
West Bond ほか
神港精機 FB-260H/TE
GSIルモニクス WM-II
新東工業
Al／Au超音波、Al／Au熱圧着
研磨、接合、パッケージング、インプリント、その他
ウェハアライナ
ウェハ接合装置
ウェハ間樹脂封入装置
UVインプリント
8”
8”
8”
~4”
EVG Smart View
EVG 520
EVG 520
東芝機械 ST50
熱インプリント
~50mm角
エキシマ有機物洗浄装置
めっき装置
~4”
~6”
オリジン電気 Reprina-T50A
MAX 650℃、30kN
デアネヒステ EXC-1201-DN
山本鍍金試験器
Au、Ni、Cu、Sn
測定
ウェハゴミ検査装置
膜厚測定装置
段差測定装置
段差測定装置
~6”
~6”
~6”
~6”
トプコン WM-3
Nanometric
NanoSpec 3000
Dektak8
Tenchor AlphaStep 500
深さ測定装置
4探針測定装置
拡がり抵抗測定装置
ウェハプローバ
~6”
~6”
小片
4”
Solid State Measurements
SSM150
東京精密 EM-20A
ユニオン光学 Hisomet
測定
レーザ／白色光 共焦点
顕微鏡（表面形状測定）
~6”
デジタル顕微鏡
電子顕微鏡
電子顕微鏡
~8”
~12”
小片
レーザーテック
OPTELICS HYBRID L3-SD
キーエンス、
クノーテクノクラフト
日立 S3700N
熱電子SEM、EDX付属
日立 S5000
インレンズ式FE-SEM
マイクロX線CT
超音波顕微鏡
TOF-SIMS
~6”
~12”
赤外線顕微鏡
~6”
コムスキャンテクノ
インサイト IS350
オリンパス、浜松ホトニクス
CAMECA TOF-SIMS IV
ScanXmate D160TS110
小片
測定
エリプソ
エリプソ
AFM
~6”
~6”
~8”
フォトニックラティス SE-101
ULVAC
Digital Instruments
Dimension3100