1. No category

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保有技術 (Technologies)
１．縮合反応→水素還元　（Condensation reaction → Hydrogen reduction）
+
OH
X
NO 2
R
O
NO 2
O
NH2
R
H2
R
HO
O
X
OH
+
O
R
NO 2
R
O 2N
R
NO 2
O
H2
O
R
NH2
R
H2N
２．Bamberger 転位　（Bamberger rearrangement）
R or X
NO 2
H2 / Catalyst / H2SO4, H2O
R or X
NO 2
HO
H2 / Catalyst / H2SO4, MeOH
R or X
NH2
H3CO
CH3
CH3
CH3
NO 2
NH
NH2
H3CO
H3CO
感熱染料の中間体
（Intermediates of the heat-sensitive dye）
Nippon Jyunryo Chemicals Co., Ltd.
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保有技術 (Technologies)
３．不斉還元　（Asymmetric reduction）
O
H2 / Ru触媒，塩基
R1
R
N
R2
R1 R2
2
N
1
R
H
N
O
OH
H
R
N
2
H
N
H2 / i-BuTRAP触媒
BuTRAP
R
N
1
R
R
O
４．金属水素化物による部分還元　（Partial reduction by Metal hydrides）
O
O
O
H
NaAlH2(OCH2CH2OCH3)2 (Vitride or Red-Al)
N
N
O
O
H
O
NaAlH2(OCH2CH2OCH3)2 (Vitride or Red-Al)
N
N
N
Tr
N
Tr
Nippon Jyunryo Chemicals Co., Ltd.
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保有技術 (Technologies)
５．ニトリルの還元　（Reduction of Nitrile）
CH 2NH 2
N
CH 2OH
CN
N
N
CHO
R
N
CN
N
Same Process
N
６．フッ化水素を用いる反応　（Reaction using Hydrogen Fluoride）
O
F
F
HF
R
R
Nippon Jyunryo Chemicals Co., Ltd.
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保有技術 (Technologies)
７．アミン誘導体　（Amine Derivatives）
R2
ROOC
N
X
N
H
N
R1
H2N
R3
X
O
NH2
O
H2N
NH2
O
O
Nippon Jyunryo Chemicals Co., Ltd.