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Pure Gas Technologies
特徴
全自動マイクロプロセッサーコントロールは、操作の煩わし
さを最小限にし、エラーチェックや温度制御を確かな
ものにして、システムを監視しています。
オペレーターインターフェイスはバルブ開閉表示、温度表
示、操作スイッチ、警報表示等が配置されており、運
転操作は全てこのパネルから行えます
システムアラームは、装置システムを完全にするため、考え
られる危険を感知します。
閉ループ温度コントロールはヒーターの能率と寿命を最大
限にするために、プレヒーターと吸着筒の温度を正
確に制御しています。
カスタマーインターフェイス接続:
アラームリレー：ノーマルオープン(NO)とノーマルク
ローズ(NC)のリレーでアラーム状態をリモート検知
出来ます。 メガトールPS22-MGTシリーズCDA用精製装置は
最善の設計により小型化されサブppbレベルの精製
能力を実現しました。サエスピュアガスにおける長年
のUHP配管設計、最新プロセスガス分析、及び最新
制御システムの導入と経験により低価格で高性能、高
信頼性の精製装置シリーズを特別に設計しました。
PS22-MGTシリーズの精製装置は室温吸着方式を採
用して組合せた2筒並列精製式の超高純度ガス精製
装置で半導体製造用のUHPCDAを供給するために特
別に設計されたものです。
出口不純物レベルは CO2, H2O, TOC’s(C7+),
amines, ammonia, sulfurs, siloxanes,
refractory compounds, phthalates,
carboxylic acids とNOx に付いて1ppb以下になり
ます。
ガス中のCO2, H2O,その他不純物は吸着筒（室温）
で吸着（精製）されます。吸着筒は吸着（精製）/再生の
2筒交互運転でガス中の不純物を取除きます。再生は
精製されたCDAガスを高温で逆流させて行われます。
10 Nm3/hr
60 Nm3/hr
200 Nm3/hr
型式 -CDA
流量
寸法
PS22-MGT10-
10 Nm3/hr PS22-MGT25-
用途:
マスク・パターン フォト・レシオグラフィー
ＥUV・オプティクス用に
半導体製造行程
高純度N2の代替
600 Nm3/hr
出口ガス純度
39'' x 38'' x 20''
H2O < 100 ppt
25 Nm3/hr
152 x 81 x 41 cm
CO2 < 100 ppt
PS22-MGT50-
50 Nm3/hr
196 x 89 x 86 cm
TOC(as C7H8) < 10 ppt
PS22-MGT60-
60 Nm3/hr
196 x 89 x 86 cm
ACIDS(as SO2) < 10 ppt
PS22-MGT100-
100 Nm3/hr
204 x 147x 191 cm
BASES(as NH3) < 10 ppt
PS22-MGT200-
200 Nm3/hr
204 x 147x 191 cm
Trace Impurities* < 10 ppt
PS22-MGT600-
600 Nm3/hr
239 x 191 x 236 cm
*siloxanes, refractory compound, phthalates,
carboxylic acids, NOx PS22-MGT1000 &
UP
1000 Nm3/hr
& UP
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