平成26年度 集積回路設計技術・次世代集積回路工学特論資料 2端子MOS構造 松田順一 本資料は、以下の本をベースに作られている。 Yannis Tsividis, Operation and Modeling of the MOS Transistor Second Edition,McGraw-Hill, New York, 1999. 1 概要 • フラット・バンド電圧 • 電位バランスと電荷バランス • 表面状態とゲート~基板間電圧 – フラット・バンド、蓄積、空乏、反転 – エネルギー・バンド図 • 反転電荷とゲート~基板間電圧 – 全体的な解析 – 強反転 – 弱反転 • 小信号容量 • フラット・バンド電圧と基板濃度の導出 2 フラット・バンド電圧説明(1) G (P+ポリSi) ゲート 絶縁膜 基板 (n型基板) B (1)ゲートと基板は同一材料 (2)ゲートと基板は異種材料 仕事関数差によりゲートと 基板側にそれぞれ電荷発生 3 フラット・バンド電圧説明(2) G 電圧源 MS G 電圧源 B (3)表面電荷がゼロになる ように外部電圧φMS印加 Qo MS B (4)界面電荷Qoの影響 MS Bulk _ material gate_ material 4 フラット・バンド電圧説明(3) 電圧源 ' o ' ox Q C G Qo ox tox VFB 電圧源 MS Qo B (5)界面電荷の影響を打消す外部電圧印加 ox Qo' Cox' , ' Cox ox tox 5 フラット・バンド電圧(数式表現) VFB MS ' o ' ox Q C n ポリシリコンゲート MS F 0.56V p ポリシリコンゲート MS F 0.56V VFB : フラットバンド電圧 MS : 仕事関数差電位 MS Bulk _ material gate_ material WM WS q Qo' : 単位面積当りの実効界面電荷 ' Cox : 単位面積当りの酸化膜容量 6 実効界面電荷 Qo • 固定電荷 – 酸化時にSi-SiO2界面に形成 • 酸化膜中のトラップ電荷 – 放射線、光エミッション、キャリア注入に起因 • 可動イオン(Na)電荷 – 工程での環境に起因 • 界面トラップ電荷 – 界面での欠陥に起因 – 基板中のキャリアと電荷の交換あり 7 フラット・バンドの説明図(1) 酸化膜 ゲート VGB p型基板 EC Ei EF EV qVGB qMS EFM Qo 0 8 フラット・バンドの説明図(2) 酸化膜 ゲート VGB p型基板 EC Ei qVGB qVFB EF EV EFM Qo 0 9 電位バランス G VGB ox VGB s y Qo Qc B ( y) ( y) s ox MS VGB ox s MS 10 電位バランス(数式表現) ゲート~基板間電圧 VGB ox s MS 電圧変化のある場合 VGB ox s ' QG:単位面積当り 電荷中性 ' QC:単位面積当り QG' Qo' QC' 0 基板内電荷 ゲート上電荷 電荷変化のある場合 QG' QC' 0 (注)ここでは、Qo' を固定して考える。 実際には、界面準位によりQo' は変化する。 11 フラット・バンド状態 電圧源 ' o ' ox Q C Qo G ox tox VFB 電圧源 MS p型 Qo B VGB VFB , QC' 0, s 0 12 蓄積状態 G 正孔 VGB VFB p型 VFB B VGB VFB , QC' 0, s 0 13 空乏状態 G VGB VFB dB VFB p型 B VGB VFB , QC' 0, s 0 14 反転状態 G y表面 VGB VFB y dB p型 VFB y yc B VGB VFB , QC' 0, s 0 15 表面電荷 表面電荷(電子)密度 nsurface n0 e ni e s t s F t p0 e s 2 F t N Ae s 2 F t 平衡状態(p型基板) ni2 p0 N A , n0 NA ni n0 F t ln n0 ni exp F t p0 ni F t ln ni p0 exp F t 16 2端子MOS構造のエネルギー・バンド図 (蓄積状態) EC EFM qVGB 0 Ei EF EV MS 0, Qo' 0 17 2端子MOS構造のエネルギー・バンド図 (弱反転開始) EC Ei qVGB qVL 0 qF EF EV EFM MS 0, Qo' 0 18 2端子MOS構造のエネルギー・バンド図 (中反転開始) EC qF qF qVGB qVM 0 EFM Ei EF EV q I q2F MS 0, Qo' 0 19 2端子MOS構造のエネルギー・バンド図 (強反転開始) EC qF qVGB qVH 0 EFM Ei EF EV q I qH 0 MS 0, Qo' 0 20 全体的な解析(ポアソンの式) ・電荷密度 ( y ) q p ( y ) n ( y ) N A ( y) n( y ) n0 exp t p基板 深さ方向:y ( y) p ( y ) p0 exp t p0 n0 N A ・ポアソンの式 ( y) ( y) d q t t p0 (e 1) n0 (e 1) 2 dy s 2 21 ポアソンの式の解(1) N A ≫ ni , p0 N A , n0 2 i n N Ae NA 2 F t とするとポアソンの式は、以下の如くになる。 2 F ( y) ( y) d qN A t t t 2 1 e (e 1) e dy s d 両辺に 2 をかけると左辺は、 dy 2 2 d d d d 2 2 dy dy dy dy となる。したがってポアソンの式は、以下の如くになる。 2 d d dy dy 2 2qN A s 2 ( y) F ( y ) d t t t 1 e (e 1) e dy 22 ポアソンの式の解(2) d y : yまで積分, 但しy で 0, 0 dy d dy 2 2 F ( y) ( y) 2qN A t t t 1 e (e 1)d e s 0 2 F ( y) ( y) 2qN A t t t t e (t e t ) t e s したがって電界 ( y ) ( y ) 2q s N A s d は dy t e ( y) t t e 2 F t (t e ( y) t t ) ここで : 0, : 0 23 半導体中の全電荷と容量 単位面積当りの半導体電荷QC' は、以下の如くになる。 QC' s surface, ( y ) s QC' 2q s N A t e s t s t e 2 F t (t e s t s t ) ' dQ また、QC' に対する容量 Cc' C は d s s 2 s F t t t 1 e e ( e 1) ' Cc 2q s N A s s 2 F t t t (t e s t ) 2 t e s t e となる。 24 反転領域(反転層電荷) s F , p基板の場合 QC' 2q s N A s t e s 2 F t QB' 2q s N A s となる。ここで、 Q Q Q ' C から ' I ' B QI' : 単位面積当りの反転層電荷 QB' : 単位面積当りの空乏層電荷 s 2 F QI' 2q s N A s t e t s となる。 25 反転領域(表面電位とゲート電圧:1) 電圧及び電荷の関係 VGB ox s MS ' QG' Cox ox QI' QI' ( s ) QG' Qo' QI' QB' 0 QB' QB' ( s ) ゲート~基板間電圧と表面電位 1 VGB ' Qo' QI' ( s ) QB' ( s ) s MS Cox MS Qo' QI' ( s ) QB' ( s ) ' s ' Cox Cox QI' ( s ) QB' ( s ) VFB s ' Cox 26 反転領域(表面電位とゲート電圧:2) VGB 2q s N A VFB s s t e ' Cox VFB s s t e s 2 F t s 2 F t ここで、 VL 0 VFB F F 2q s N A ' Cox s 2 F の場合、VGB VM 0 VL 0 : 弱反転開始電圧 VM 0 VFB 2 F 2 F VM 0 : 中反転開始電圧 s F の場合、VGB VL 0 27 基板バイアス係数 tox (Å) 28 表面電位とゲート基板間電圧 及び電荷と表面電位 s QI' s QB' 2F Z 0 2F ' C Q F 0 VL 0 Depletion Weak inversion VM 0 VH 0 VGB Moderate Strong inversion inversion 29 反転領域(反転層電荷とゲート電圧) ' QI' Cox ox Qo' QB' ' ' Q Q ' o B Cox VGB s MS ' Cox 2q s N A C VGB VFB s s ' C ox ' ox ' Cox VGB VFB s s VGB ox s MS QB' 2q s N A s 30 反転層電荷とゲート~基板間電圧 QI' ' Slope Cox VL 0 VFB Depletion VM 0 VT 0 VH 0 Weak inversion Moderate inversion VGB Strong inversion 31 強反転領域の電荷 表面電位は、実効的に一定 s 0 0 2 F この場合の反転層電荷は ' QI' Cox VGB VFB 0 0 ' VGB VT 0 Cox となる。ここで VT 0 VFB 0 0 である。 32 弱反転領域(反転電荷と表面電位) 反転領域の電荷は s 2 F / t QI ' 2q s N A s t e s 弱反転領域では、 s 2 F であるから、 s 2 F / t t e とおくと、 ≪ s となるため s t e s 2 F / t s s 1 2 s したがって、 QI ' 2q s N A 2 s t e s 2 F / t 33 弱反転領域(反転電荷とゲート電圧:1) 弱反転領域では、 s 2 F であるから VGB VFB s s t e s 2 F /t VFB s s となる。 s saとして、上式から saを解くと 2 sa VGB VFB 2 4 となる。したがって、 saはVGBの関数になり、 2 QI ' となる。 2q s N A 2 sa (VGB ) t e sa (VGB ) 2 F / t 34 弱反転領域(反転電荷とゲート電圧:2) ここで、 sa (VGB ) 2 Fとすると、 QI ' 2q s N A 2 2 F t e sa (VGB ) 2 F / t となる。ここで、 1 d sa 1 n 2 sa dVGB n | sa 2 F 1 である。 2 2 F n0 (一定) 35 弱反転領域(反転電荷とゲート電圧:3) したがって、 1 sa 2 F VGB VM 0 n0 となる。QI 'は QI ' 2q s N A 2 2 F (Q ' M0 t e V GB VM 0 2q s N A 2 2 F / n0 t QM' 0 e VGB VM 0 / n0 t t ) となる。 36 弱反転領域(反転電荷とゲート電圧:4) sa (VGB ) s 1 Slpoe n0 2F M F VL 0 VGB VM 0 37 反転層電荷とゲート~基板間電圧 ln QI' (b) (a) s 2 F t Q 2q s N A s t e s ' I (a) (c) VGB VFB s s t e s 2 F t V V / n ' (b) QI ' QM 0e GB M 0 0 t VM 0 VT 0 Weak inversion Moderate inversion VGB VH 0 ' ' (c) QI Cox VGB VT 0 Strong inversion 38 小信号容量(ゲート~基板間) ゲート~基板間容量(単位面積当り) dQG' C dVGB ' gb とすると、以下の如くになる。 QG VGB C gb QG dV 1 ' GB' C gb dQG d ox d s ' dQG dQG' 1 1 dQG' dQC' d ox d s 1 1 ' Cox Cc' dQG' dQC' ' ここで、C , CC d ox d s s CC QC QC QC' QG' VGB QG Cox CC QC ox s VGB ox s ' ox 39 半導体中の全電荷による小信号容量 ' dQ Cc' C の具体的な式 d s s 2 s F t t t 1 e e ( e 1) ' Cc 2q s N A s s 2 F t t t (t e s t ) 2 t e s t e s 3tの場合 s 2 F t 1 e Cc' 2q s N A s 2 F 2 s t e t 40 反転層容量の具体的な式(1) ycを 0のところでのy(でも可)とすると、 QI' は、(p型基板の場合) QI' q yc n( y)dy y surface qN Ae となる。 2 F s t ( y ) / t e 0 d n( y ) n0 e ( y) t N Ae 2 F t e ( y) t d dy 41 反転層容量の具体的な式(2) したがって、Ci'は、 ( s 3tの場合) ' dQ I Ci' d s qN Ae 2 F t q s N Ae e s / t ( s ) s 2 F / t 2q s N A 1 2q s N A s t e s 2 F / t e s 2 F / t 2 s t e s 2 F / t となる。 42 空乏層容量の具体的な式(1) ycを 0のところでのy(でも可)とすると、 QB' は、(p型基板の場合) QB' q yc p y N dy A y surface s qN A 0 となる。 1 e y / t d p ( y ) p0 e ( y) t N Ae ( y) t d dy 43 空乏層容量の具体的な式(2) したがって、Cb' は以下になる。( s 3tの場合) s / t ' dQ 1 e B Cb' qN A d s ( s ) qN A 1 e s / t 2q s N A s q s N A t e s t s t e 1 2q s N A s t e 2q s N A s 2 F / t 2 F t (t e s t s t ) 1 2 s t e s 2F / t 44 小信号容量と表面電位 C' ' Cox Cc' Ci' 実線:正確 破線:チャージ・シート・モデル Cb' 0 F 2F s 45 空乏層容量と反転層容量 QC' QB' QI' dQC' dQB' dQI' d s d s d s QG Cox ここで、 ' ' dQ dQ B I Cb' , Ci' d s d s とすると、 VGB QB Cb ox Ci QI s Cc' Cb' Ci' したがって、以下の如くになる。 1 1 1 ' ' ' C gb Cox Cb Ci' 46 ゲート基板間容量とゲート~基板間電圧 ' C gb ' Cox 実線:Quasi static 破線:High frequency VFB VGB VL 0 VM 0 VH 0 Strong inversion Accumulation Depletion Weak Moderate inversion inversion 47 表面電位と容量の関係(1) VGB QI' ( s ) QB' ( s ) VFB s ' Cox dVGB 1 1 ' Cb' Ci' d s Cox ' d s Cox ' dVGB Cox Cb' Ci' ' dQ B Cb' d s ' dQ I Ci' d s 弱反転領域では、Cb' ≫ Ci' であるため ' d s Cox ' dVGB Cox Cb' となる。 48 表面電位と容量の関係(2) したがって、 1 d s Cb' 1 ' n Cox dVGB 1 1 2 s 2 sa となる。また、界面準位による容量も考慮すると Cb' Cit' n 1 ' COX ' dQ it となる。ここで、Cit' である。 d s Cit' はCb'とCi'に並列になる。 49 フラットバンド容量 ' フラットバンド容量C FB は、 ' C FB lim Cc' , s 0 s 2 s F 1 e t e t (e t 1) ' C c 2 q s N A s s 2 F t t t (t e s t ) 2 t e s t e の中は、0となるので、 である。 s 0で、 0 s t 2 1 e 1 s s t 2 t として、 s 0にすると、極限値が求まる。この極限値は、以下となる。 C ' FB 2 F 2q s N A 1 e t 2t 2q s N A 1 s 2t p 1 2 但し、 s :デバイ長 p t qN A 50 基板密度の導出方法 高周波C Vのゲート~基板間の最大容量値C gbmaxは、 C gbmax Cox (蓄積状態) である。また、反転層が形成された後の空乏層容量は Cdm s d Bm A s 2 s 2F qN A A 2 q s N A 2 2F A (A:容量断面積) である。この場合、ゲート~基板間の最小容量値C gbminは、 1 1 C gbmin C gbmax 1 Cdm となる。これから以下を得る。 Cdm C gbmax C gbmin C gbmax C gbmin 測定値C gbmaxとC gbminからCdmを求めると、Cdmの上式からN Aを決定できる。 51 フラットバンド電圧の導出方法 高周波C Vから求めた基板密度を用いると、 フラットバンド容量は、 C FB 2q s N A 1 A (A:容量断面積) 2t で与えられる。この場合、フラットバンド電圧印加時の ゲート~基板間容量C gbFBは、 C gbmax C FB CoxC FB C gbFB Cox C FB C gbmax C FB となる。すなわち、 C gbFB C FB C gbmax C gbmax C FB とし、右辺を実測から求めると、 C gbFB C gbmax を決定できる。 これから、VFBが求まる。 52
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