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レーザー学会第35回年次大会　セッション/座長 表
会場名
部屋番号
席数
S会場
2B101
492
第Ⅰ会場
4101
120
第Ⅱ会場
Ｅ４
Ｈ２
4102
60
第Ⅲ会場
4103
120
第Ⅳ会場
4104
120
第Ⅴ会場
4105
120
Ｃ４
光音響
第Ⅵ会場
4106
63
第Ⅶ会場
4201
172
第Ⅷ会場
4202
172
第Ⅸ会場
4203
63
第Ⅹ会場
4204
63
09:00-09:15
09:15-09:30
Ｓ１(前半)
09:30-09:45 ﾚｰｻﾞｰ技術が支
える自動車産業
ﾃﾞﾊﾞｲｽ応用
光波面計測･
制御
09:45-10:00 座長：塚本雅裕 座長：岩見健太郎 座長：成瀬　誠
(東京農工大）
(大阪大）
(NICT)
10:00-10:15
Ｄ７
Ｉ４
Ａ４
高輝度Ｘ線
凝縮系ﾀﾞｲﾅﾐｸｽ
座長：石井克典
(大阪大）
Ａ５
分光Ⅰ
座長：神門正城
(原研)
座長：藤　貴夫
(分子研)
Ｇ４
光ﾃﾞﾊﾞｲｽ技術
Ｆ４
フェムト秒ﾚｰ
Ｂ４
ｻﾞｰ誘起微細構
ﾌｧｲﾊﾞﾚｰｻﾞｰⅠ
造
光制御
座長：梅木毅伺
(NTT)
座長：津田裕之 座長：西澤典彦
座長：寺川光洋
(慶應義塾大)
(名古屋大）
(慶應義塾大)
10:15-10:30
10:30-10:45
10:45-11:00
Ｉ５
11:00-11:15
Ｅ５
Ｓ１(後半)
非線形分光
Ｈ３
画像処理･超解 原子･分子ﾀﾞｲﾅ
像技術
ﾐｸｽⅠ
Ｃ５
高エネルギー
密度科学
11:15-11:30 ﾚｰｻﾞｰ技術が支
える自動車産業 座長：川田善正
(静岡大)
座長：早崎芳夫 座長：関川太郎 座長：三浦永祐
(宇都宮大）
(北海道大）
(産総研）
11:30-11:45 座長：甲藤正人
(宮崎大）
座長：大嶋佑介
(愛媛大）
Ｇ５
B5
光増幅技術
ﾌｧｲﾊﾞﾚｰｻﾞｰⅡ
座長：杉原隆嗣 座長：藤本　靖
(三菱電機）
（大阪大）
D８
表面ﾌﾟﾛｾｽ
B８
ﾚｰｻﾞｰ制御Ⅰ
座長：寺川光洋
座長：鍋川康夫
(慶應義塾大)
(理研)
11:45-12:00
12:00-12:15
12:15-12:30
12:30-12:45
1
月 12:45-13:00
12
日 13:00-13:15
（月）
13:15-13:30
S4(前半)
I６
X線自由電子ﾚｰ
分光Ⅱ
ｻﾞｰの高輝度化
S2(前半)
A６
13:30-13:45
座長：盛田伸一
ﾚｰｻﾞｰ照明・ﾃﾞｨ がもたらすﾚｰ
原子･分子ﾀﾞｲﾅ
ｻﾞｰ科学と放射
(東北大）
E６
ｽﾌﾟﾚｲの輝く未
ﾐｸｽⅡ
光科学の融合
C６
13:45-14:00
ﾌﾟﾗｽﾞﾓﾆｸｽ･計測
来
座長：板倉隆二 高強度ﾚｰｻﾞｰ科
学
座長：石野正人 座長：犬伏雄一 座長：庄司　暁
(原研)
(高輝度研)
14:00-14:15 (パナソニック）
(電通大)
座長：小栗克弥
(NTT)
14:15-14:30
B６
ﾚｰｻﾞｰﾋﾞｰﾑ制御
D９
B９
ﾚｰｻﾞｰ加工･機
ﾚｰｻﾞｰ制御Ⅱ
能創成
座長：小林洋平
(東京大)
座長：須田　亮
座長：宮地悟代
(東理大)
(東京農工大）
14:30-14:45
14:45-15:00
15:00-15:15
S4(後半)
X線自由電子ｴｰ
ｻﾞｰの高輝度化
S2(後半)
15:15-15:30
ﾚｰｻﾞｰ照明・ﾃﾞｨ がもたらすﾚｰ
ｽﾌﾟﾚｲの輝く未 ｻﾞｰ科学と放射
光科学の融合
15:30-15:45
来
15:45-16:00
座長：八木哲哉 座長：佐野智一
(大阪大)
(三菱電機)
A７
ﾃﾗﾍﾙﾂ制御･ﾅﾉ
ﾌｫﾄﾆｸｽ
16:00-16:15
16:15-16:30
16:30-16:45
16:45-17:00
座長：神田夏輝
(理研)
D１０
B７
ﾅﾉ･ﾏｲｸﾛ構造
B１０
高出力ﾚｰｻﾞｰ材
短ﾊﾟﾙｽﾚｰｻﾞｰ
座長：宮地悟代
料
(東京農工大） 座長：吉富　大
座長：白川　晃
(産総研）
(電通大)
F５
非線形･有機光
学材料
座長：田邉孝純
(慶應義塾大)